교육과정 >
전체보기
교육과정
[반도체실무과정] 8대공정 - 불순물 주입 및 확산 공정
 |
환급
모바일학습가능
|
맛보기 |
반도체 8대공정 중 불순물 주입 및 확산 공정에 대해 설명할 수 있다.
[강사소개]
강사 : 엄중섭
경력 : 한국반도체기술교육원
삼성전자주식회사
- 1차시
- CMOS 소개와 Implant 용어 정리
- 2차시
- 이온 주입의 개요
- 3차시
- 이온 주입에 의한 농도분포
- 4차시
- Ion Implant Channeling
- 5차시
- 결함의 발생과 Annealing (1)
- 6차시
- 결함의 발생과 Annealing (2)
- 7차시
- 집적회로에의 응용
- 8차시
- Process Evaluation & Technology Trend
- 9차시
- Diffusion의 개요
- 10차시
- 산화공정 개요
- 11차시
- Si/SiO₂ 계면과 산화막의 용도
- 12차시
- 산화 속도의 영향 요소와 SiO₂/Si 계면 전하
- 13차시
- 불순물의 재분포와 Oxide Quality 요구 조건
- 14차시
- 확산의 정의
- 15차시
- ANNEAL
- 16차시
- 확산 공정의 측정, 평가 및 불량 유형
| 진도율 | 80% 이상 |
| 진행평가 (시험) | 10문항 30점 (1문항 3점), 시험가능 진도율 50%이상 , 8차시까지 학습후 시험가능, 시험시간 60분 |
| 총괄평가 (시험) | 20문항 60점 (1문항 3점) , 서술형 1문제 (10점), 시험가능 진도율 80%이상 , 시험시간 60분 |
| 유의사항 | 진행 평가 : 30점(10문항) - 진도율 50% 도달 시 응시 총괄 평가(서술형 포함) : 70점(21문항) - 진도율 80% 도달 시 응시 수료기준 : 진행평가, 총괄평가 합산 60점 이상 |
| 종합평가 | 진도율 80%이상, 진행평가, 총괄평가 합산 60점 이상 수료됨 |
| 수료기준 | 60점 이상 |
훈련방법
- 인터넷을 통한 웹기반 학습 등
이런분들에게 권장합니다.
반도체 제조 공정 관련 직무 종사자
051-506-0901
